頭影測量的標志點、平面、角度、線距
一、標志點：
1、顱部標志點：鼻根點（N）、蝶鞍點（S）、耳點（P）、Bolton點；
2、上頜標志點：眶點（Or）、前鼻棘點（ANS）、后鼻棘點（PNS）、上切牙點（UI）、上齒槽點（A）；
3、下頜標志點：下切牙點（LI）、下齒槽點（B）、頦前點（Po，）、頦頂點（Gn）、頦下點（Me）、下頜角點（Go）；
4、軟組織點：鼻頂點（Prm）、軟組織頦前點（Pos）、軟組織頦頂點（Gs）、軟組織頦下點（Me）、上唇度突點（UL）、下唇度突點（LL）。
二、頭影測量平面：
（1）基準平面：前顱底平面—SN、眼耳平面—FH、Boltond平面。
（2）測量平面：腭平面（ANS-PNS，PP，MxP）、顱底平面（Ba-N）、合平面（OP）、下頜平面（MP，MnP）、下頜升支平面（RP）、面平面（NPo）、NA平面、AB平面、APo平面、審美平面（Prm-Pos，E-line）
三、角度和線距：
01、顱底角（NSBa）：該角反映的是關(guān)節(jié)凹與顳下頜關(guān)節(jié)的位置。該角小時下頜趨向前，反之下頜后縮。
02、SNA角：表明上頜相對于前顱底的前后位置。該角大時上頜相對鼻根點前突，反之，后縮。
03、SNB角：該角表示下頜相對于前顱底的前后位置。該角大時下頜前突，反之下頜后縮。
04、ANB角：表示上頜骨和下頜骨的相對前后位置。該角越大時表示上頜前突或者下頜后縮，反之，上頜后退或者下頜前突。
05、面角（FH-NPo）：表示頦相對于面部其他部份的位置。面角增大表示頦部前突，反之后退。
06、A-B水平距（Wits）：由A和B點向功能合平面作垂線，其兩交點之間的距離。表示A點和B點之間的前后不調(diào)，顯示上頜基骨和下頜基骨之間的不調(diào)程度，修正ANB角的固有問題。BO在AO前負值，2mm以上，表示安氏III類錯合，AO在BO前正值，表示安氏II類頜關(guān)系。
07、A-B平面角：A-B平面與面平面之間的上交角，表示上頜基骨和下頜基骨相對于面平面的前后關(guān)系。A點在面平面之前，該角為負值，負值越大表明安氏II類骨骼型。該正值越大，表示安氏III類骨骼型。
08、A-B合平面角：A-B平面與合平面之間的下后交角，該角越小，表明A點偏前或B點后縮，可表現(xiàn)安氏II類I分類錯合。當該角越大，可表示安氏III類錯合伴有B點在A點之間。
09、下頜平面角（SN-MnP/MP）：表示了有關(guān)下面部的垂直關(guān)系和前后關(guān)系的信息。
10、腭平面角（SN-MxP/PP）：表示前鼻棘和后鼻棘在垂直向的位移和腭平面旋轉(zhuǎn)的信息。該角小時腭平面逆時針旋轉(zhuǎn)，下頜平面順時針旋轉(zhuǎn)。
11、腭平面-下頜平面角(MxP-MnP)：該角大時反映了下頜平面平陡，或腭平面后部向下，或二者兼有，此時可有前牙開合傾向。
12、前上面高（N-ANS，N-MxP）：從前鼻棘點向鼻根點至頦下點連線作垂線，垂足至鼻根點的距離。
13、前下面高（ANS-Me，Me-MxP）：從前鼻棘點向鼻根點至頦下點連線作垂線，垂足至頦下點的距離。該值越大，有骨性開合。
14、后面高/前面高（S-Go/Na-Me）：前面高表示從鼻根點至頦下點的實際距離，后面高表示從蝶鞍點至下頜角點的實際距離。正常比為62%，過大時表示面部呈水平矢狀方向生長，反之呈垂直生長。
15、上中切牙角（UI-SN）：表示上中切牙相對前顱底的傾斜度，該角過大表示上中切牙唇傾，如伴有位置前突，可內(nèi)收上前牙，如
UI-MxP：線角
16、下中切牙角（LI-MnP/IMPA）：<Tweed三角>，表示下中切牙對于下頜平面的傾斜度，該角過大，表示下中切牙唇傾，反之舌傾。
LI-Apo：突度距
< Tweed三角>:下頜平面-眼耳平面角（MP-FH/FMA），下中切牙-眼耳平面角（LL-FH/FMIA）
17、上下中切牙角（UI-LI）：表示切牙的突度。
18、審美線（E-Line）：鼻尖至軟組織頦部的切線。
E-line—UL/E-line—LL：點位于E線的唇側(cè)為正，舌側(cè)為負。
19、ODI值=AB平面與下頜平面的角度+腭平面與FH平面構(gòu)成的角度。（腭平面向前下方傾斜時角度正值，向前上方傾斜為負值。）該角越大進，測深覆合的傾向明顯，反之開合傾向。
20、APDI值=面平面與FH平面的夾角+AB平面夾+腭平面與FH平面的夾角。（腭平面向前下方傾斜時角度正值，向前上方傾斜為負值。B點位于A點的后方為正值，前方時為負值。）該值越小，安氏II類錯合傾向明顯，反之，安氏III類錯合傾向明顯。
21、EI值=ODI+APDI+|上中切牙夾角-130|/5—（上唇突度+下唇突度）《審美線（E-Line）：鼻尖至軟組織頦部的切線。E-line—UL/E-line—LL：點位于E線的唇側(cè)為正，舌側(cè)為負?！吩撝翟浇?50，拔牙可能性越大，越近155，不拔牙的可能性越大。150-155間臨界病例。
信息來源：正畸學會
