全瓷在美容修復(fù)中的作用越來越呈現(xiàn)出其優(yōu)勢(shì)，而隨著新型全瓷材料氧化鋯材料的出現(xiàn)，修復(fù)已經(jīng)不在是局限于簡(jiǎn)單的美容修復(fù)。但國(guó)內(nèi)對(duì)氧化鋯材料的修復(fù)仍屬于初級(jí)的探索階段，其主要的原因是我們醫(yī)生對(duì)材料的相關(guān)知識(shí)了解甚少，同時(shí)又缺少相關(guān)的文獻(xiàn)，這使得氧化鋯材料無法廣泛應(yīng)用于臨床。在這里我查閱了一些氧化鋯的相關(guān)國(guó)內(nèi)外文獻(xiàn)及信息，并做了一下總結(jié)，其中有不當(dāng)之處望加以指正。

  鋯石富藏于堿性巖中，質(zhì)純的鋯為透明色且堅(jiān)硬，常被誤認(rèn)為鉆石，我們現(xiàn)在臨床修復(fù)中所使用的氧化鋯屬于合成鋯類，其材料是以斜鋯石和鋯石英為主。合成類鋯中又分為單斜向體聚晶型鋯、四方向體聚晶型鋯和立方體聚晶相鋯。氧化鋯的熔點(diǎn)在2710度，如果加入Mg、Y、Ca等氧化物，熔點(diǎn)溫度可降低到2500度，在這種溫度下可以將四方晶相鋯有效的存在于常溫下。Y-TZP——即釔穩(wěn)定四方體聚晶氧化鋯就是我們臨床常用的氧化鋯，而氧化鋯優(yōu)良的力學(xué)性能是來源于這種四方向晶型的變化。四方晶相氧化鋯在材料使用中，由于外力的誘導(dǎo)會(huì)向單斜晶相轉(zhuǎn)變，以消耗部分能量緩解應(yīng)力，同時(shí)相粒子的體積增大效應(yīng)即抑制裂紋的擴(kuò)展。

 四方體轉(zhuǎn)換的示意圖

  值得說明的是Y-TZP也分為不同的種類，大體上分為兩種，即HIP和CIP雖然它們的組成成分相同，但由于加工條件及粉末類型選擇的差異，使得它們?cè)趶?qiáng)度和透光度性方面都會(huì)有不同表現(xiàn)。現(xiàn)有的氧化鋯是依靠CAD/CAM系統(tǒng)進(jìn)行加工，用于CAD/CAM系統(tǒng)的切割的是由＂噴濺－干化＂（spary-dried）粉末成型的氧化鋯瓷塊，經(jīng)過研磨后，在1150度～1600度的溫度下進(jìn)行無壓力燒結(jié)，此時(shí)多孔狀的預(yù)燒結(jié)氧化鋯型胚會(huì)有20％的線性收縮，并開始體現(xiàn)出其強(qiáng)度和透光性的特性。這種技術(shù)我們稱之為＂熱等靜壓壓縮＂——HIP，也就是現(xiàn)在國(guó)際上極力推廣的HIP氧化鋯。從工藝上講HIP是在一個(gè)封閉的空間內(nèi)，用高溫和高壓使氧化鋯粉體致密化，同時(shí)使用HIP工藝的氧化鋯粉末量要比傳統(tǒng)的CIP(冷等靜壓壓縮)氧化鋯多一些，顆粒也更細(xì)致（大小不超過30納米）其強(qiáng)度也提高了20％以上。目前國(guó)內(nèi)的CAD/CAM所使用的氧化鋯應(yīng)該都屬于HIP類

  強(qiáng)度無論是900Mpa也好1200Mpa也好，理論內(nèi)上這種強(qiáng)度已經(jīng)高于金屬的強(qiáng)度了，但我們?nèi)圆荒芎鲆曈绊懷趸啅?qiáng)度的因素。

  疲勞期后的強(qiáng)度下降：任何材料在經(jīng)過使用后會(huì)出現(xiàn)疲勞，而強(qiáng)度和韌性都會(huì)下降全瓷，全瓷也不例外。全瓷材料一般經(jīng)過5年后的疲勞期，其強(qiáng)度會(huì)有50%以上的下降，之后其強(qiáng)度會(huì)一直穩(wěn)定。

  線性收縮與橋橫截面：一般氧化鋯在燒結(jié)后都會(huì)出現(xiàn)20%~50%的收縮，通過釔氧化物的加入及致密度加工會(huì)將鋯的收縮率控制在20%，過長(zhǎng)的橋體仍會(huì)使強(qiáng)度下降。同時(shí)橋體的橫截面大小也決定橋的強(qiáng)度，傳統(tǒng)全瓷橋的橫截面積為4X4（16）平方毫米，而氧化高可以做到前（牙）8后（牙）９平方毫米大小的橫截面，但超過兩個(gè)橋體時(shí)需要設(shè)計(jì)為9-12-9。

  噴砂與技工修改：噴沙以及使用較細(xì)粒度的研磨工具不會(huì)對(duì)氧化鋯的強(qiáng)度產(chǎn)生影響，但是使用超過125~150um顆粒的砂石研磨或氧化鋁噴砂則會(huì)造成強(qiáng)度下降； 而研磨工具顆粒缺損嚴(yán)重，造成在修復(fù)體出現(xiàn)大量的表面缺陷，此時(shí)也將會(huì)降低了氧化鋯修復(fù)體的總體強(qiáng)度。因此我們應(yīng)盡量避免對(duì)內(nèi)冠進(jìn)行修改。

  氧化鋯因不當(dāng)?shù)男薷?，造成的表面缺?/span>

來源于DSD微笑設(shè)計(jì)